光催化凈化設備活性炭吸附設備
作者:森然 來源:森然環保 2022-07-31 瀏覽量:113
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光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化鈦(TiO2)吸收外界輻射的光能,使其直接轉變為化學能。當能量大于禁帶寬度的光照射半導體時,光激發電子躍遷到導帶,形成導帶電子(e-),同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體
光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化鈦(TiO2)吸收外界輻射的光能,使其直接轉變為化學能。當能量大于禁帶寬度的光照射半導體時,光激發電子躍遷到導帶,形成導帶電子(e-),同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續性,電子和空穴的壽命較長,它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動,與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質發生氧化還原反應,或者被表面晶格缺陷俘獲??昭ê碗娮釉诖呋瘎┝W觾炔炕虮砻嬉材苤苯訌秃希昭軌蛲皆诖呋瘎┝W颖砻娴腍O-或H2O發生作用生成自由基HO・,HO・是一種活性很高的粒子,能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。