光刻
采用熱掃描探針光刻和激光直寫相結合的方法快速制備點接觸量子點硅基晶體管(2019-02-27)
制造高品質的固態硅基量子器件要求高分辨率的圖形書寫技術,同時要避免對基底材料的損害。來自IBM實驗室的Rawlings等人利用SwissLitho公司生產的3D納米結構高速直寫機NanoFrazor,結合其高分辨熱探…[詳情]
我國成功研制新型中紫外直接光刻機(2017-04-18)
近日,一種新型的中紫外直接光刻機由中國科學院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊在國內研制成功。該設備采用特有的高均勻、高準直中紫外照明技術,結合光敏玻璃材料,實現基于光敏玻璃基底的微…[詳情]