科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備的簡單介紹
科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,觸摸屏控制,可調節功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品
科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備的詳細信息
科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發鍍膜,熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 .
原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色 科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備KT-Z1650CVD 控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 | 加熱方式 | 數字式功率調整器 | 鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 | 最大功率 | ≤1200W | 最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A | 真空度 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa | 擋板類型 | 電控 | 真空腔室 | 不銹鋼腔體φ160mm x 160mm | 樣品臺 | 可旋轉φ62 (最大可安裝φ50基底) | 樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 | 樣品蒸發源調節距離 | 70-140mm | 蒸發溫度調節 | ≤1800℃ | 支持蒸發坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 | 預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 | 可選配擴展 | 機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |
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