俄羅斯托姆斯克工業(yè)大學(xué)的研究人員用碳離子的短脈沖波作用于硅,在硅表面合成納米金剛石粒子和碳粒子,在世界上首次在其他物質(zhì)表層內(nèi)部合成納米金剛石粒子。該技術(shù)能夠改變金屬制品和半導(dǎo)體的某些性質(zhì),讓某些材料變得更加堅固,提高其耐磨性以及同金剛石鍍層的粘結(jié)強度,在半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)甚至整個半導(dǎo)體工業(yè)具有很好的應(yīng)用前景。
學(xué)者認(rèn)為,由于金剛石納米粒子是在高溫高壓條件下產(chǎn)生,而碳離子總是在發(fā)生伴生作用。因此,這種合成方法不僅可以通過硅實現(xiàn),也可以在其他物質(zhì)內(nèi)部實現(xiàn)。據(jù)悉,該大學(xué)于2012年獲得碳植入專利,該專利被列入俄羅斯知識產(chǎn)權(quán)局公布的“俄羅斯100項優(yōu)秀發(fā)明專利”之中。
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