流體系統(tǒng)產(chǎn)品、組件和相關(guān)服務(wù)的領(lǐng)先供應(yīng)商世偉洛克宣布推出 ALD7 超高純度（UHP）隔膜閥，該產(chǎn)品能夠?yàn)榘雽?dǎo)體制造商提供提高芯片成品率所需的一致性和長(zhǎng)使用壽命。與世偉洛克目前的頂級(jí) ALD6 閥相比，ALD7 提供了更好的流量一致性、流量容量和執(zhí)行器速度。它還提供了在高溫下的性能，使芯片制造商能夠克服當(dāng)前生產(chǎn)過(guò)程中的限制并跟上需求。

ALD7 閥門(mén)可以集成到新工具或傳統(tǒng)設(shè)備中，以提供與現(xiàn)有閥門(mén)相同的1.5英寸（38.1mm）占地面積內(nèi)改進(jìn)的流量（高達(dá)0.7 Cv），幫助制造商跟上全球?qū)ο冗M(jìn)技術(shù)芯片的強(qiáng)烈需求。ALD7 閥門(mén)的驅(qū)動(dòng)速度甚至比前代產(chǎn)品 ALD6 更快、更一致，從而在數(shù)千萬(wàn)個(gè) ALD（原子層沉積）生產(chǎn)周期中提供精確的計(jì)量。執(zhí)行器的開(kāi)閉響應(yīng)時(shí)間可小于5ms。執(zhí)行器可浸入150°C（302°F），閥體額定溫度為200°C（392°F），使閥門(mén)能夠更好地支持需要高溫輸送的低蒸氣壓前體。這為制造商提供了最大化產(chǎn)量所需的控制。

ALD7 閥門(mén)采用緊湊型設(shè)計(jì)，帶有集成的熱隔離器，使系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員能夠最大限度地利用芯片生產(chǎn)工具反應(yīng)室附近的有限空間。這些閥門(mén)還對(duì) ALD 工藝中使用的腐蝕性氣體具有很強(qiáng)的耐受性，閥體由世偉洛克專(zhuān)有的超高純度 VIM-VAR 不銹鋼制成。因此，半導(dǎo)體工具制造商可以依靠 ALD7 閥門(mén)在可變工藝條件下提供一致的性能，從而在不增加運(yùn)營(yíng)成本的情況下提高客戶(hù)的生產(chǎn)率。

世偉洛克產(chǎn)品經(jīng)理 Ben Olechnowicz 解釋道：“自近20年前開(kāi)發(fā)業(yè)內(nèi)首款適合用途的 ALD 閥以來(lái)，我們一直與半導(dǎo)體客戶(hù)合作，以更好地了解我們的 UHP 閥所需的性能水平，因?yàn)樾酒圃焐滩粩嗫s小工藝節(jié)點(diǎn)并最大限度地提高芯片成品率。這迫使我們追求創(chuàng)新思維并開(kāi)發(fā)閥門(mén)，以更快地啟動(dòng)，在更極端的條件下運(yùn)行，并在苛刻的原子層過(guò)程中允許更高的流動(dòng)系數(shù)。我們將 ALD7 設(shè)計(jì)為一種可靠的全天候生產(chǎn)閥門(mén)，為我們的客戶(hù)提供必要的性能一致性，以便在一個(gè)似乎總是在變化的行業(yè)中保持領(lǐng)先地位，并對(duì)制造商提出更高的要求。”

ALD7 目前提供具有高流量 C 型密封件的模塊化表面貼裝配置或帶管對(duì)焊的直型配置，以及世偉洛克 VCR 端面密封接頭端部連接。高溫電子位置傳感器、光學(xué)位置傳感器或電磁先導(dǎo)閥配置也可作為附加組件提供。