超薄低相位差PC膜開發成功
作者： 2014年08月22日 來源： 瀏覽量：
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近日，日本旭硝子公司通過注塑成形方式成功開發出厚度薄至100微米、相位差更低的聚碳酸酯（PC）薄膜CarbogalssC110C-LR。該產品主要設計用途為氧化銦錫（ITO）、透明導電膜的基本膜等，相位差在10納米以下。
近日，日本旭硝子公司通過注塑成形方式成功開發出厚度薄至100微米、相位差更低的聚碳酸酯（PC）薄膜CarbogalssC110C-LR。該產品主要設計用途為氧化銦錫（ITO）、透明導電膜的基本膜等，相位差在10納米以下。
據介紹，以往面向智能手機等電子設備的透明導電膜基材中，多在聚對苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜上涂敷ITO膜。而在觸摸面板等領域，應用程序和要求品質呈現多樣化，除PET-ITO外，其他材料的用途開發也十分活躍。
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