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表面缺陷
新疆理化所在光催化劑表面缺陷調控及應用研究中獲系列進展(2016-03-15)
半導體光催化技術因在環境和能源領域的重要應用而引起科研工作者及企業界人士的關注。但是，傳統商業中TiO2半導體光催化劑禁帶寬度比較大，光催化活性局限于只占太陽光中4%左右的紫外區。因此，為改…[詳情]
表面缺陷
新疆理化所在光催化劑表面缺陷調控及應用研究中獲系列進展(2016-03-15)
半導體光催化技術因在環境和能源領域的重要應用而引起科研工作者及企業界人士的關注。但是，傳統商業中TiO2半導體光催化劑禁帶寬度比較大，光催化活性局限于只占太陽光中4%左右的紫外區。因此，為改…[詳情]